企业参编标准对标报告
中国电子科技集团公司第二研究所
生成时间：2026年09月30日 · 数据来源：全国团体标准信息平台 / 全国标准信息公共服务平台等
一、参编总览
「中国电子科技集团公司第二研究所」共参与 13 项标准的起草，
其中担任牵头/主要起草单位 4 项。
团标 10 项；国标 2 项；行标 1 项； 参编标准是企业行业话语权与投标竞争力的直接体现。
二、参编标准清单（最多列示 200 项，按牵头与发布时间排序）
| 标准号 | 标准名称 | 类型 | 角色 | 状态 |
|---|---|---|---|---|
| T/CMEEEA 136—2026 | 电镀设备与工艺智能化应用指南 | 团标 | 牵头起草单位 | 现行 |
| T/CMEEEA 137—2026 | 电镀行业绿色生产与环保管理通用规范 | 团标 | 牵头起草单位 | 现行 |
| GB/T 43972-2024 | 集成电路封装设备远程运维 状态监测 | 国标 | 主要起草单位 | 现行 |
| GB/T 43796-2024 | 集成电路封装设备远程运维 数据采集 | 国标 | 主要起草单位 | 现行 |
| T/CMES 24021—2024 | 半导体超纯聚合物过流部件污染物检测及表面粗糙度技术要求 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/CHPSA YY003—2024 | 超洁净磁悬浮泵 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/CHPSA YY004—2024 | 超洁净气动波纹管泵 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/CHPSA YY005—2024 | 半导体超纯聚合物过流部件污染物检测及表面粗糙度技术要求 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/IAWBS 012—2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/IAWBS 013—2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/IAWBS 007—2018 | 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| T/IAWBS 002—2017 | 碳化硅外延片表面缺陷测试方法 | 团标 | 参编单位 | 现行 |
| SJ/T 11321-2006 | DVD/CD只读光头通用技术规范 | 行标 | 起草单位 |
三、对标建议
与同行相比，参编数量与牵头数量是企业技术实力的直观指标。贵司可结合主营业务，评估在相关领域申报
国家标准 / 行业标准 / 团体标准 参编资格——参编证明 1 周内可出，标准发布前即可用于投标。
咨询：18660107518（微信同号）