企业标准参编对标报告
「广东天域半导体股份有限公司」
生成日期：2026年09月30日 · 数据来源：全国团体标准信息平台 / 全国标准信息公共服务平台等公开渠道 · 共收录标准 437,116 项（持续扩充中）
一、贵企业参编概况
30参编标准总数
1牵头起草
7团标
23国标
| 标准号 | 标准名称 | 级别 | 发布机构 | 本企业角色 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 43612-2023 | 碳化硅晶体材料缺陷图谱 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 主要起草单位 |
| GB/T 48164.1-2026 | 半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管（SiC MOSFET）可靠性试验方法 第1部分：偏置温度不稳定性试验方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 48164.2-2026 | 半导体器件 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管（SiC MOSFET）可靠性试验方法 第2部分：体二极管工作引起双极退化的试验方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43894.3-2026 | 半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分：扇形区域平整度法（ESFQR、ESFQD、ESBIR） | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 47404-2026 | 碳化硅单晶 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43894.2-2026 | 半导体晶片近边缘几何形态评价 第2部分：边缘卷曲法（ROA） | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 47082-2026 | 碳化硅单晶抛光片堆垛层错测试方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| T/CASME 2095—2025 | 半导体刻蚀用化学气相沉积碳化硅制品规范 | 团标 | 中国中小商业企业协会 | 参编单位 |
| T/CASME 2085—2025 | 碳化硅晶体长晶用碳化钽涂层产品技术规范 | 团标 | 中国中小商业企业协会 | 参编单位 |
| GB/T 46227-2025 | 半导体单晶材料透过率测试方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 32278-2025 | 碳化硅单晶片厚度和平整度测试方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 30868-2025 | 碳化硅单晶片微管密度测试方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 14140-2025 | 半导体晶片直径测试方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| T/CASME 2000—2025 | 半导体外延用碳化硅涂层石墨基座技术规范 | 团标 | 中国中小商业企业协会 | 参编单位 |
| GB/T 45598-2025 | 精细陶瓷 高温弹性模量、剪切模量和泊松比试验方法 脉冲激励法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 44536-2024 | CVD陶瓷涂层热膨胀系数和残余应力试验方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 24578-2024 | 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| T/DGSEDA 001—2024 | 危险废物日常环境管理技术规范 | 团标 | 东莞市松山湖生态环境发展促进会 | 参编单位 |
| GB/T 43885-2024 | 碳化硅外延片 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43894.1-2024 | 半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD） | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43493.2-2023 | 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第2部分：缺陷的光学检测方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43493.3-2023 | 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第3部分：缺陷的光致发光检测方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43493.1-2023 | 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第1部分：缺陷分类 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 43313-2023 | 碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 6616-2023 | 半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 42905-2023 | 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| GB/T 42902-2023 | 碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 起草单位 |
| T/CASAS 025—2023 | 8英寸碳化硅衬底片基准标记及尺寸 | 团标 | 北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 | 参编单位 |
| T/CASAS 026—2023 | 碳化硅少数载流子寿命测定微波光电导衰减法 | 团标 | 北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 | 参编单位 |
| T/CASAS 032—2023 | 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 团标 | 北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 | 参编单位 |
最近一次参编标准发布日期：2026-08-28
二、同行参编对比
| 对标企业 | 参编总数 | 与本企业同标 |
|---|---|---|
| 有色金属技术经济研究院有限责任公司 | 311 项 | 10 项 |
| 山东天岳先进科技股份有限公司 | 14 项 | 10 项 |
| 中国科学院半导体研究所 | 148 项 | 9 项 |
三、可参编标准机会清单
以下 8 项标准有 2 家及以上同行领先企业参与、而贵企业尚未参编，建议优先评估：
| 标准号 | 标准名称 | 级别 | 发布机构 | 同行参与 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 47902-2026 | 金刚石单晶抛光片 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
| GB/T 35305-2026 | 太阳能电池用砷化镓单晶及抛光片 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
| GB/T 4326-2025 | 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
| T/CASAS 048—2025 | 碳化硅单晶生长用等静压石墨 | 团标 | 北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 | 中国科学院半导体研究所、山东天岳先进科技股份有限公司（2 家） |
| T/CASAS 036—2025 | 碳化硅单晶生长用等静压石墨构件纯度测定方法 辉光放电质谱法 | 团标 | 北京第三代半导体产业技术创新战略联盟 | 中国科学院半导体研究所、山东天岳先进科技股份有限公司（2 家） |
| GB/T 14264-2024 | 半导体材料术语 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
| GB/T 42274-2022 | 氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
| GB/T 41153-2021 | 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 | 国标 | 国家标准化管理委员会 | 山东天岳先进科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司（2 家） |
四、招投标加分潜力分析
| 标准级别 | 牵头起草 | 参与起草 |
|---|---|---|
| 国家标准 | 4 ~ 6 分 | 2 ~ 4 分 |
| 行业标准 | 3 ~ 5 分 | 1.5 ~ 3 分 |
| 团体标准 | 2 ~ 4 分 | 1 ~ 2 分 |
贵企业现有参编组合的标准化加分潜力约为 55 ~ 108 分
其中牵头起草 1 项可争取更高档位分值 · 多数招标项目技术标标准化加分上限为 5 ~ 10 分，贵企业已可覆盖多数项目的加分上限，后续参编主要提升竞争壁垒
以上 30 项标准均可在发布前开具参编证明，直接作为投标佐证材料（1 周内可出）
| 企业 | 标准化加分潜力估算 | 与贵企业差距 |
|---|---|---|
| 本企业 | 55 ~ 108 分 | — |
| 有色金属技术经济研究院有限责任公司 | 586 ~ 1172 分 | 落后约 1064 分 |
| 山东天岳先进科技股份有限公司 | 25 ~ 50 分 | 贵企业领先约 58 分 |
| 中国科学院半导体研究所 | 214.5 ~ 429 分 | 落后约 321 分 |
说明：分值区间依据政府采购、工程建设类招标常见评标办法整理，仅作参考；实际加分以各项目招标文件评审标准为准。
五、结论与建议
综上，贵企业当前参编 30 项标准（牵头 1 项），在同行业对比中仍有提升空间——同行领先企业参编 311 项，差距即机会。结合上方机会清单，优先选择与主营业务强相关、正处于征集阶段的团体标准切入。
参编标准可为企业带来：投标加分与资质背书、行业话语权、参编证明（1 周内可出，标准发布前即可用于投标）。
参编申报咨询：18660107518（微信同号）